トリケミカル研究所が行なった研究開発の講演・発表をご紹介いたします。
2018/9/21名古屋
| 題名 |
SiBr4を用いた低温ALDによるSiO2成膜 |
| 発表学会名 |
第79回応用物理学会秋季学術講演会 |
2008/10/8 東京大学
| 題名 |
Realization of High Stable Porous SiOCH Films (k=2.3-2.4, Er=8.0 GPa) using DcPDMOS by O2 Addition and UV Cure |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2008: 18th Asian Session |
2008/9/23 San Diego, U.S.A
| 題名 |
Realization of High Stable Porous SiOCH Films (k=2.3-2.4, Er=8.0 GPa) using DcPDMOS by O2 Addition and UV Cure |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2008 (AMC) 2008 |
2007/10/23 東京大学
| 題名 |
Chemical Vapor Deposition of Ni-Pt thin film using Pt(PF3)4 and Ni(PF3)4 |
| 発表学会名 |
ADMETA 2007 17th Asian Session |
2007/10/6 明治大学
| 題名 |
Pt(PF3)4/Ni(PF3)4を用いたCVD法によるNi-Pt薄膜の堆積 |
| 発表学会名 |
先端半導体研究所ワークショップ |
2006/10/18 San Diego, U.S.A
| 題名 |
W-CVD using biscyclopentadienyltungsten system |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2006 (AMC) 2006 |
2006/9/26 Tokyo,Japan
| 題名 |
Properties of chemical reaction during Ni and Ni-silicide deposition using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2006 (ADMETA2006) |
2006/9/5 Tokyo,Japan
| 題名 |
Properties of Ni and Ni-silicide deposition using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 |
International Workshop on Sustainable Energy and Materials (IWSEM2006) |
2006/9/5 Tokyo,Japan
| 題名 |
W-CVD using (i-PrCp)2WH2 |
| 発表学会名 |
International Workshop on Sustainable Energy and Materials (IWSEM2006) |
2006/8/31 立命館大学
| 題名 |
CVDによるNiシリサイドの堆積(II) |
| 発表学会名 |
第67回応用物理学会学術講演会 |
2006/7/30 kyoto, Japan
| 題名 |
Chemical Vapor Deposition of NiSi using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 |
Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicide 2006 (APAC-silicide 2006) |
2006/4/18 San Francisco, CA
| 題名 |
Ultra Low-k Film Deposition By PECVD Using a Novel Organosilane as a Precursor |
| 発表学会名 |
2006 MRS Spring Meeting |
2006/3/24 武蔵工業大学
| 題名 |
CVDによるNiシリサイドの堆積 |
| 発表学会名 |
第53回応用物理学会関係連合講演会 |
2005/11/29 Cheju, Korea
| 題名 |
Ni-silicide precursor for gate electrodes |
| 発表学会名 |
27th International Symposium of Dry Process (DPS2006) |
2005/10/13 Tokyo,Japan
| 題名 |
Chemical Vapor Deposition of Ni-silicide for gate electrodes |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2005 (ADMETA2005) |
2005/9/14 Kobe,Japan
| 題名 |
Composition control of Ni-silicide by CVD using Ni(PF3)4 and Si3H8 |
| 発表学会名 |
The 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2005) |
2005/9/10 徳島大学
| 題名 |
CVDによるNiシリサイドゲート電極の堆積 |
| 発表学会名 |
第66回応用物理学会学術講演会, |
2005/9/10 徳島大学
| 題名 |
W成膜のための液体CVD原料（i-PrCp）2WH2 |
| 発表学会名 |
第67回応用物理学会学術講演会, |
2005/9/7 徳島大学
| 題名 |
新規Si化合物を用いたプラズマCVDによるLow-k薄膜の作製 |
| 発表学会名 |
第66回応用物理学会学術講演会, |
2005/5/17 Quebec, Canada
| 題名 |
Nickel thin film deposition using Ni(PF3)4 for LSI electrode |
| 発表学会名 |
207th meeting of Electrochemical society (ECS) |
2005/4/1 埼玉大学
| 題名 |
Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積(II) |
| 発表学会名 |
第52回応用物理学会関係連合講演会 |
2004/9/29 Tokyo,Japan
| 題名 |
Ni Thin Film Deposition using tetrakistrifluorophosphinenickel (0), Ni(PF3)4 |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2004 (ADMETA2004) |
2004/9/2 東北学院大学
| 題名 |
Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積 |
| 発表学会名 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
2004/8/9 Grenoble, France
| 題名 |
Surface reactions in Ni MOCVD using cyclopentadienylallylnickel as a precursor |
| 発表学会名 |
14th International Conference on Crystal Growth (ICCG-14) |
2004/3/28 東京工科大学
| 題名 |
MOCVD法によるNiの成膜 |
| 発表学会名 |
第51回応用物理学会関係連合講演会, |
2003/9/17 Tokyo,Japan
| 題名 |
Ni precursor for chemical vapor deposition of NiSi |
| 発表学会名 |
The 2003 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2003) |
2003/8/31 福岡大学
| 題名 |
MOCVD法によるNiSi(II)成膜 |
| 発表学会名 |
第64回応用物理学会学術講演会 |
2002/10/30 Tokyo,Japan
| 題名 |
Organometallic Hf and Si precursors for Hf1-XSi XO2 thin film formation |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2002 (ADMETA2002) |
2002/8/20 Seoul, Korea
| 題名 |
Organometallic Hf and Si precursors for HfSiO2-CVD and ALD process |
| 発表学会名 |
Atomic Layer Deposition Conference (ALD2002) |
2001/10/30 Tokyo,Japan
| 題名 |
HfO2 and Hf1-xSixO2 deposition by MOCVD using TDEAH |
| 発表学会名 |
Advanced Metallization Conference 2001 (ADMETA2001) |
2001/9/2 愛知工業大学
| 題名 |
MOCVD法によるHfO2膜の堆積(III) |
| 発表学会名 |
第62回応用物理学会学術講演会 |
