製品開発

開発方針

当社の主要な販売先である半導体業界におきましては、各種データ量の増加や、AIや車載等に向けた用途の拡大を受け、半導体の高性能化ニーズが継続しております。
また、それに伴う新規化学材料の開発および市場への投入も引き続き求められています。
このような環境下、当社の研究開発は、開発部を中心として、生産技術部、製造部、営業部等と連携を取りながら活動を進めることにより、迅速かつ効率的に結果を出すことができる体制を構築しております。
当社が果たすべき役割として、優れた製品を定期的に開発することにより、高収益体質を維持し、産業全体の技術革新、社会のエネルギー削減（※）に貢献していきたいと考えています。そこで、お客さまの技術革新をサポートするため、今後5年間で新製品10件の開発を目指します。

（※）当社製品は、主に半導体の製造原料として使用されており、特に最先端デバイスに活用されています。当社が技術革新し、新製品を開発することにより、半導体の極小化が進むことで社会のエネルギー削減につながります。

成果

2018/9/21名古屋

題名	SiBr4を用いた低温ALDによるSiO2成膜
発表学会名	第79回応用物理学会秋季学術講演会

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  ZACを用いて、ALDにより作製したZrO2膜のSEM像　×80,000
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  allylNiCpを用いて、ALDにより作製したNi膜のSEM像　×100,000

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